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實(shí)驗室研磨儀|反應釜引領(lǐng)者-五洲鼎創(chuàng  )(北京)科技有限公司

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當使用實(shí)驗室球磨機精細研磨樣品時(shí),顆粒聚集是我們面臨的挑戰,因為樣品顆粒在研磨過(guò)程中可能達到目標粒徑,一旦設備停止,顆粒就很容易聚集(團聚)。這是因為樣品顆粒的粒徑變小后,其自身質(zhì)量會(huì )變小,容易受到外力的影響。例如,由于電荷、水或分子之間的作用力,不同顆粒容易聚集在一起,成為粒徑較大的聚集顆粒。顆粒越細,表面越大,團聚的機會(huì )就越多。這種聚集顆粒具有內部結合力低、不穩定的特點(diǎn),在外部因素的作用下容易分散,但一旦滿(mǎn)足條件,就會(huì )迅速聚集在一起。我們可以通過(guò)一些方法來(lái)分散這些顆粒。目前實(shí)驗室常用的分散顆粒方法有攪拌分散、超聲波分散和分散劑分散。攪拌分散,超聲分散是利用外力分散聚集在一起的顆粒,分散劑是為了減少顆粒表面的張力,從而改善顆粒表面的濕或充電狀態(tài),減少顆粒團聚的發(fā)生。在使用球磨機研磨樣品時(shí),如果要求樣品的出料粒度較小,我們經(jīng)常使用濕磨或加入分散劑來(lái)降低樣品的出料粒度。濕磨溶劑一般包括超純水、無(wú)水乙醇等。分散劑包括焦磷酸鈉、聚丙烯酸鈉、六偏磷酸鈉、羧甲基纖維素、單寧酸等。根據樣品特性和研磨前處理要求選擇哪種分散劑。